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更新日期：2024-06-15
簡要描述：
日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP
臺式和固定式研磨機的設計尺寸非常適合創(chuàng)建從實驗室規(guī)模到生產規(guī)模的高度靈活的拋光工藝。
| 品牌 | 其他品牌 | 電源電壓 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 空載轉速 | 1 | 回轉數(shù) | 1 |
日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP
臺式和固定式研磨機的設計尺寸非常適合創(chuàng)建從實驗室規(guī)模到生產規(guī)模的高度靈活的拋光工藝。
采用特別適合高壓拋光的高剛性機身和開發(fā)的水冷主軸，使拋光墊表面溫度始終保持恒定，并提供高旋轉精度和很少的振動。
設備規(guī)格
型號：EJW-460I-CMP
日本engis小型高壓拋光機EJW-460I-CMP
| 機械模型 | EJ-300-CMP | EJ-380-CMP | EJW-380I-CMP | EJW-460-CMP |
|---|---|---|---|---|
| 標準平臺尺寸（?外徑×?內徑mm） | 300×100 | 380x140 | 460x180 | |
| 戒指尺寸（?外徑 x ?內徑 mm） | 143x108 | 178x140 | 220x182 | |
| 粘貼板尺寸（mm） | 107 | 138 | 180 | |
| 主軸電機（千瓦） | 0.4 | 1.5 | 2.2 | |
| 水冷機構 | ||||
| 標準軸數(shù)/搭載加壓氣缸機構 | 滾輪臂 x 3 軸 | 回轉強制驅動驅動 x 2 軸 | ||
| 電源 | 三相AC200V 50/60Hz | |||
| 機身尺寸（寬 x 深 x 高毫米） | 550×780×410 | 800×800×1,900 | 1,200×1,300×1,900 | |
| 重量（公斤凈重） | 95 | 800 | 1,000 | |
*EJ-300/380-CMP 為桌面型。
