半導體制造行業(yè)用光刻黃光介紹
光刻是半導體制造過程中不可少的工藝之一。
晶圓被光刻膠,然后進行蝕刻和摻雜過程。
NLT3-591nm系列以光刻膠不反應的波長發(fā)光,使其適用于光刻前后工藝中的設備照明,這是一種半導體制造工藝。
半導體設備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等
發(fā)光二極管波長 | 591納米 |
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預期壽命 | 工作溫度 40°C 40,000 小時 * 壽命是照度為初始照度的 70% 時 |
工作溫度 | -10°C~40°C(但不凍結) |
防護等級 | IP65 防護等級 |
電源線 | 3 米 (AWG26x2C) |
選擇 | 安裝磁鐵 (ND-P03) |
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型號/尺寸(毫米) | A | B |
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NLT3-05-DC-S | 210 | 200 |
NLT3-10-DC-S | 330 | 320 |
NLT3-20-DC-S | 580 | 570 |
NLT3-30-DC-S | 830 | 820 |
NLT3-40-DC-S | 1080 | 1070 |
型 | 大小 | 權力 | 蓋 | 選擇 |
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NLT3 |
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